巨納將出席2016石墨烯高峰論壇

分類：公司新聞
作者：泰州巨納新能源辦公室
來源：
發(fā)布時間：2016-04-01 22:25
訪問量：

【概要描述】? ? ? ?為推進中國石墨烯等碳納米材料的研究和產業(yè)發(fā)展，2016石墨烯高峰論壇將于4月14日在清華大學深圳研究生院舉行。 ? ? ? ?本次論壇將繼續(xù)以石墨烯基納米碳材料的制備器件、工業(yè)化應用開發(fā)等為主題，多個國家和地區(qū)的知名學者和產業(yè)界人士，從學術和產業(yè)化視角探討石墨烯及其他二維材料的研究進展和產業(yè)發(fā)展現狀，為國內外杰出科學家與企業(yè)家搭建一個交流與合作的平臺。巨納集團SUNANO GROUP也將出席本次論壇，巨納作為我國首個石墨烯國家標準的第一起草單位和組長單位，除了與國內外專家學者交流之外，還會為大家介紹全球最尖端的多密度等離子體CVD系統(tǒng)-NEXTCVD。如果您正從事相關的工作，歡迎到現場與我們交流。 ? 多密度等離子體CVD系統(tǒng)-NEXTCVD SUNANO多功能寬密度等離子體CVD結合了電感耦合和電容耦合輝光放電的優(yōu)點，可在寬密度工藝范圍（109-1013 cm-3)實現穩(wěn)定的等離子體輔助CVD，具有優(yōu)良的材料處理性能和廣泛的應用范圍，是目前全球功能最強大的等離子體CVD系統(tǒng)。 ???????主要特點 l? 主要用于石墨烯表面層數減薄、刻蝕、修飾、改性 l? 多種工作氣體下產生穩(wěn)定的等離子體輝光放電： l? 氬氣、氫氣、氮氣、氧氣、硅烷、硼烷、磷烷、鍺烷、甲烷、氨氣、六氟化?? 硫、四氟化碳、二氧化碳等等。 l? 等離子體密度可調，變化范圍大（109-1013 cm-3） l? 可與磁控濺射同時工作形成共沉積（最多可與四個磁控濺射靶材形成等離子體輔助沉積），因而可沉積多種多樣的化合物薄膜廣泛的應用范圍 l? 光伏行業(yè)（氮化硅/非晶硅/微晶硅/等離子體織構與刻蝕） l? 新型二維材料（石墨烯/二硫化鉬等的表面改性及制備） l? 半導體工藝（刻蝕工藝/氮化硅與二氧化硅工藝等） l? 納米材料的生長與納米形貌的刻蝕構造 ? 熱烈歡迎世界各界人士蒞臨巨納集團展臺，溝通交流，共商合作大業(yè)！

巨納將出席2016石墨烯高峰論壇

【概要描述】? ? ? ?為推進中國石墨烯等碳納米材料的研究和產業(yè)發(fā)展，2016石墨烯高峰論壇將于4月14日在清華大學深圳研究生院舉行。
? ? ? ?本次論壇將繼續(xù)以石墨烯基納米碳材料的制備器件、工業(yè)化應用開發(fā)等為主題，多個國家和地區(qū)的知名學者和產業(yè)界人士，從學術和產業(yè)化視角探討石墨烯及其他二維材料的研究進展和產業(yè)發(fā)展現狀，為國內外杰出科學家與企業(yè)家搭建一個交流與合作的平臺。
巨納集團SUNANO GROUP也將出席本次論壇，巨納作為我國首個石墨烯國家標準的第一起草單位和組長單位，除了與國內外專家學者交流之外，還會為大家介紹全球最尖端的多密度等離子體CVD系統(tǒng)-NEXTCVD。如果您正從事相關的工作，歡迎到現場與我們交流。
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多密度等離子體CVD系統(tǒng)-NEXTCVD
SUNANO多功能寬密度等離子體CVD結合了電感耦合和電容耦合輝光放電的優(yōu)點，可在寬密度工藝范圍（109-1013 cm-3)實現穩(wěn)定的等離子體輔助CVD，具有優(yōu)良的材料處理性能和廣泛的應用范圍，是目前全球功能最強大的等離子體CVD系統(tǒng)。
???????主要特點
l? 主要用于石墨烯表面層數減薄、刻蝕、修飾、改性
l? 多種工作氣體下產生穩(wěn)定的等離子體輝光放電：
l? 氬氣、氫氣、氮氣、氧氣、硅烷、硼烷、磷烷、鍺烷、甲烷、氨氣、六氟化?? 硫、四氟化碳、二氧化碳等等。
l? 等離子體密度可調，變化范圍大（109-1013 cm-3）
l? 可與磁控濺射同時工作形成共沉積（最多可與四個磁控濺射靶材形成等離子體輔助沉積），因而可沉積多種多樣的化合物薄膜
廣泛的應用范圍
l? 光伏行業(yè)（氮化硅/非晶硅/微晶硅/等離子體織構與刻蝕）
l? 新型二維材料（石墨烯/二硫化鉬等的表面改性及制備）
l? 半導體工藝（刻蝕工藝/氮化硅與二氧化硅工藝等）
l? 納米材料的生長與納米形貌的刻蝕構造

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熱烈歡迎世界各界人士蒞臨巨納集團展臺，溝通交流，共商合作大業(yè)！

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作者：泰州巨納新能源辦公室
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發(fā)布時間：2016-04-01 22:25
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為推進中國石墨烯等碳納米材料的研究和產業(yè)發(fā)展，2016石墨烯高峰論壇將于4月14日在清華大學深圳研究生院舉行。
本次論壇將繼續(xù)以石墨烯基納米碳材料的制備器件、工業(yè)化應用開發(fā)等為主題，多個國家和地區(qū)的知名學者和產業(yè)界人士，從學術和產業(yè)化視角探討石墨烯及其他二維材料的研究進展和產業(yè)發(fā)展現狀，為國內外杰出科學家與企業(yè)家搭建一個交流與合作的平臺。
巨納集團SUNANO GROUP也將出席本次論壇，巨納作為我國首個石墨烯國家標準的第一起草單位和組長單位，除了與國內外專家學者交流之外，還會為大家介紹全球最尖端的多密度等離子體CVD系統(tǒng)-NEXTCVD。如果您正從事相關的工作，歡迎到現場與我們交流。

多密度等離子體CVD系統(tǒng)-NEXTCVD
SUNANO多功能寬密度等離子體CVD結合了電感耦合和電容耦合輝光放電的優(yōu)點，可在寬密度工藝范圍（109-1013 cm-3)實現穩(wěn)定的等離子體輔助CVD，具有優(yōu)良的材料處理性能和廣泛的應用范圍，是目前全球功能最強大的等離子體CVD系統(tǒng)。
主要特點
l 主要用于石墨烯表面層數減薄、刻蝕、修飾、改性
l 多種工作氣體下產生穩(wěn)定的等離子體輝光放電：
l 氬氣、氫氣、氮氣、氧氣、硅烷、硼烷、磷烷、鍺烷、甲烷、氨氣、六氟化硫、四氟化碳、二氧化碳等等。
l 等離子體密度可調，變化范圍大（109-1013 cm-3）
l 可與磁控濺射同時工作形成共沉積（最多可與四個磁控濺射靶材形成等離子體輔助沉積），因而可沉積多種多樣的化合物薄膜
廣泛的應用范圍
l 光伏行業(yè)（氮化硅/非晶硅/微晶硅/等離子體織構與刻蝕）
l 新型二維材料（石墨烯/二硫化鉬等的表面改性及制備）
l 半導體工藝（刻蝕工藝/氮化硅與二氧化硅工藝等）
l 納米材料的生長與納米形貌的刻蝕構造

熱烈歡迎世界各界人士蒞臨巨納集團展臺，溝通交流，共商合作大業(yè)！