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泰州巨納參加第83屆IEC大會(huì)(2019年,中國(guó)上海)

泰州巨納參加第83屆IEC大會(huì)(2019年,中國(guó)上海)

  • 分類(lèi):公司新聞
  • 作者:泰州巨納新能源辦公室
  • 來(lái)源:
  • 發(fā)布時(shí)間:2019-10-25 14:22
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【概要描述】? ? ? ?第83屆國(guó)際電工委員會(huì)(IEC)大會(huì)于2019年10月21日在上海開(kāi)幕,這是我國(guó)繼1990年、2002年后第三次承辦IEC大會(huì)。此次大會(huì)共有來(lái)自94個(gè)國(guó)家和地區(qū)、國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化組織(ISO)、歐洲、泛美、亞太等多個(gè)國(guó)際和區(qū)域標(biāo)準(zhǔn)化組織的近4000名代表參會(huì)。 ? ? ? 第83屆IEC大會(huì)期間召開(kāi)IEC/TC 113納米光電子技術(shù)委員會(huì)全體大會(huì),低維工作組委員、IEC/TC113/WG8注冊(cè)專(zhuān)家倪振華、王浩敏、梁錚三人參加了會(huì)議并對(duì)項(xiàng)目進(jìn)行了匯報(bào)。經(jīng)IEC/TC113委員會(huì)討論決議,由低維工作組提出的2項(xiàng)項(xiàng)目(見(jiàn)下)順利進(jìn)入NP(新提案)階段。 項(xiàng)目1:IEC 62607-06-24 NANOMANUFACTURING - KEY CONTROL CHARACTERISTICS: Graphene Film - layer number distribution: optical contrast method 項(xiàng)目2: IEC 62607-06-23 NANOMANUFACTURING - KEY CONTROL CHARACTERISTICS: Graphene Film - carrier mobility and sheet resistance: Hall measurement ? ? ? ?IEC是制定和發(fā)布國(guó)際電工電子標(biāo)準(zhǔn)并制定相關(guān)合格評(píng)定程序的全球權(quán)威國(guó)際機(jī)構(gòu),與國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化組織(ISO)、國(guó)際電信聯(lián)盟(ITU)并稱為世界三大國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)組織。本屆IEC大會(huì)的主題為“質(zhì)量成就美好生活”,將通過(guò)大會(huì)凝聚共識(shí),與各國(guó)攜手推進(jìn)標(biāo)準(zhǔn)化在提升生活質(zhì)量、共建人類(lèi)命運(yùn)共同體中發(fā)揮更大作用。 ?

泰州巨納參加第83屆IEC大會(huì)(2019年,中國(guó)上海)

【概要描述】? ? ? ?第83屆國(guó)際電工委員會(huì)(IEC)大會(huì)于2019年10月21日在上海開(kāi)幕,這是我國(guó)繼1990年、2002年后第三次承辦IEC大會(huì)。此次大會(huì)共有來(lái)自94個(gè)國(guó)家和地區(qū)、國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化組織(ISO)、歐洲、泛美、亞太等多個(gè)國(guó)際和區(qū)域標(biāo)準(zhǔn)化組織的近4000名代表參會(huì)。

? ? ? 第83屆IEC大會(huì)期間召開(kāi)IEC/TC 113納米光電子技術(shù)委員會(huì)全體大會(huì),低維工作組委員、IEC/TC113/WG8注冊(cè)專(zhuān)家倪振華、王浩敏、梁錚三人參加了會(huì)議并對(duì)項(xiàng)目進(jìn)行了匯報(bào)。經(jīng)IEC/TC113委員會(huì)討論決議,由低維工作組提出的2項(xiàng)項(xiàng)目(見(jiàn)下)順利進(jìn)入NP(新提案)階段。

項(xiàng)目1:IEC 62607-06-24 NANOMANUFACTURING - KEY CONTROL CHARACTERISTICS: Graphene Film - layer number distribution: optical contrast method

項(xiàng)目2: IEC 62607-06-23 NANOMANUFACTURING - KEY CONTROL CHARACTERISTICS: Graphene Film - carrier mobility and sheet resistance: Hall measurement



? ? ? ?IEC是制定和發(fā)布國(guó)際電工電子標(biāo)準(zhǔn)并制定相關(guān)合格評(píng)定程序的全球權(quán)威國(guó)際機(jī)構(gòu),與國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化組織(ISO)、國(guó)際電信聯(lián)盟(ITU)并稱為世界三大國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)組織。本屆IEC大會(huì)的主題為“質(zhì)量成就美好生活”,將通過(guò)大會(huì)凝聚共識(shí),與各國(guó)攜手推進(jìn)標(biāo)準(zhǔn)化在提升生活質(zhì)量、共建人類(lèi)命運(yùn)共同體中發(fā)揮更大作用。

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       第83屆國(guó)際電工委員會(huì)(IEC)大會(huì)于2019年10月21日在上海開(kāi)幕,這是我國(guó)繼1990年、2002年后第三次承辦IEC大會(huì)。此次大會(huì)共有來(lái)自94個(gè)國(guó)家和地區(qū)、國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化組織(ISO)、歐洲、泛美、亞太等多個(gè)國(guó)際和區(qū)域標(biāo)準(zhǔn)化組織的近4000名代表參會(huì)。

      第83屆IEC大會(huì)期間召開(kāi)IEC/TC 113納米光電子技術(shù)委員會(huì)全體大會(huì),低維工作組委員、IEC/TC113/WG8注冊(cè)專(zhuān)家倪振華、王浩敏、梁錚三人參加了會(huì)議并對(duì)項(xiàng)目進(jìn)行了匯報(bào)。經(jīng)IEC/TC113委員會(huì)討論決議,由低維工作組提出的2項(xiàng)項(xiàng)目(見(jiàn)下)順利進(jìn)入NP(新提案)階段。

項(xiàng)目1:IEC 62607-06-24 NANOMANUFACTURING - KEY CONTROL CHARACTERISTICS: Graphene Film - layer number distribution: optical contrast method

項(xiàng)目2: IEC 62607-06-23 NANOMANUFACTURING - KEY CONTROL CHARACTERISTICS: Graphene Film - carrier mobility and sheet resistance: Hall measurement

       IEC是制定和發(fā)布國(guó)際電工電子標(biāo)準(zhǔn)并制定相關(guān)合格評(píng)定程序的全球權(quán)威國(guó)際機(jī)構(gòu),與國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化組織(ISO)、國(guó)際電信聯(lián)盟(ITU)并稱為世界三大國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)組織。本屆IEC大會(huì)的主題為“質(zhì)量成就美好生活”,將通過(guò)大會(huì)凝聚共識(shí),與各國(guó)攜手推進(jìn)標(biāo)準(zhǔn)化在提升生活質(zhì)量、共建人類(lèi)命運(yùn)共同體中發(fā)揮更大作用。

 

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